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三井化學將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持阿斯麥新機
2024-06-18
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日本三井化學日前宣布，將開始量產(chǎn)半導體最尖端光刻機的零部件產(chǎn)品（保護半導體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品），計劃在日本山口縣巖國大竹工廠內設置生產(chǎn)線，計劃年產(chǎn)能力為5000張，生產(chǎn)線預計于2025年12月完工。可支持荷蘭阿斯麥（ASML）將推出的下一代光刻機。（財聯(lián)社）
責任編輯：
肖曉晨
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